1200℃-CVD梯度管式爐是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業(yè)中用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。

二、產(chǎn)品特點

爐外殼

1、外殼采用金屬Q235低碳鋼，表面靜電耐藥涂裝，抗腐蝕

2、 堅固的雙層金屬框架配合隔熱風扇結構，爐表面溫度低

3、水平使用方式，上開蓋結構，操作方便

耐火材料

多層隔熱設計，由輕質氧化鋁陶瓷纖維和高品質隔熱板背襯組成，不含石棉成分，熱損失小，能耗低

加熱系統(tǒng)    

1、高品質HRE螺旋電阻絲發(fā)熱體，牢固的鑲嵌在爐膛表面，在爐腔內自由熱輻射加熱，使用壽命長

2、電阻絲環(huán)形加熱，從而實現(xiàn)爐內的良好均勻性

溫度控制面板

1、PID配合SSR控制方式，溫度控制準確

2、國際標準化N型鎳鉻硅熱電偶，測溫范圍0-1300℃，使用壽命長

3、爐門帶有開門斷電保護開關

程序控制器

1、適應復雜工藝需求的的控制器

2、操作簡單直接，編程靈活

3、可編程4條曲線，單條曲線8個程序段

4、超溫和故障報警，自動進行保護

真空氣氛功能

1、帶有304不銹鋼的密封法蘭，獲得爐管內的真空或者氣氛

2、高品質石英玻璃工作管，也可選擇金屬或剛玉材質的工作管，從而適應不同的工況

3、高性能雙極旋片真空泵，可獲得5pa的真空度，數(shù)字真空計可顯示真空度

4、帶有氣路控制單元，控制單元可選擇1-3路MFC自動控制系統(tǒng)